等离子抛光在金属表面处理行业的应用

1.一般需要做真空镀膜或真空镀膜的产品，在镀膜前都会先做清洗工艺，部份客户取用等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜工艺。特别是对于那些用布轮或者是麻轮做过抛光处理的产品就显得尤为重要。因为产品在经过轮子抛光后易留下轮纹，造成表面阴阳色或颜色不均匀现象发生，这样经过真空镀膜后就会呈现得更为明显，呈现出镀膜颜色不均匀，阴阳面等。 2.采用等离子抛光工艺比清洗工艺良率要多30%以上，给前工序抛光工艺为抛除表面的轮纹减小很大压力，产能明显上升。主要原因是我们利用等离子抛光能够很好的提高产品的光泽度、降低产品表面粗糙度及提高表面硬度。 3.抛光镭射后再做真空镀膜的产品也需要先做清洗工艺，然后再做真空镀膜工艺。这是因为产品在镭射时表面容易产生发黄和吸附一些废渣，简单的清洗根本去除不干净。如果清洗不干净则会造成真空镀膜颜色不均和麻点等不良现象。采用等离子抛光工艺，可使产品清洁度大大提高，使良率明显提升10一20%。 4.抛光拉丝后再做真空镀膜的产品也需要先做等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜。这是因为产品在拉丝过程中很容易使砂砾拉伤表面或者尼龙丝被高温烧焦吸附在工件拉丝位，简单的清洗根本没办法去除干净。如果清洗不干净也会给真空镀膜造成麻点，砂眼和颜色不均。 5.需要真空镀膜的产品，前工序好先做等离子抛光，因为等离子抛光可以充分去除工件冲裁面的批锋、利角和表面脏污。从而使得真空镀膜的膜附着力大大增强，特别是冲裁面的边角位不易脱膜，能将镀膜附着力良率提高15%以上。 6.等离子抛光工艺还有退掉镀膜的功效，我们只要通过特定的抛光剂，在短的时间(30~1805)就可以完全脱掉镀膜。这样大大节省脱膜时间。对于那些表面真空镀氮化碳或氮化铬的产品，脱膜相对较难，通过等离子抛光也能完全将表面膜层去除干净，但是抛光时间需要延长一倍以上。虽说抛光时间相对增加，但仍然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率(因为等离子抛光能很好提高表面的光泽度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光洁，导电性能好)。退镀前产品图片退镀后产品图片综上所述，等离子抛光的确是真空镀膜或真空镀膜前处理不可缺少的工艺，并且以对人体无伤害，对环境无污染，成本低的 优势压倒电解工艺，同时也为真空镀膜或真空镀膜解除更多的不良因素，为真空镀膜或真空镀膜出高品质的产品而多做贡献。

金属等离子抛光与常见金属抛光方式对比

目前常用的抛光方式有机械抛光、化学抛光、电解抛光等。 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主。对表面质量要求高的可采用超精研抛的方法，利用该技术可以达到?Ra0.008?μm?的表面粗糙度，是各种抛光方法中高的，光学镜片模具常采用这种方法。机械抛光的缺点是劳动强度大，污染严重，复杂零件无法加工，且其光泽不能一致,光泽保持时间不长，发闷、生锈。比较适合加工简单件，中、小产品。 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10?μm?。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光的缺点是光亮度差,有气体溢出，需要通风设备，加温困难。适合加工小批量复杂件及小零件光亮度要求不高的产品。 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。其缺点是防污染性高，加工设备一次性投资大，复杂件要工装、辅助电极，大量生产还需要降温设施。 等离子抛光是利用气液等离子体发生技术，将工件置于抛光液中，施加一定的直流电压，使工件周围的抛光液汽化，形成一个包围工件的气层，通过在气层的不同位置形成放电通道，将表面材料有选择地去除，实现对金属工件表面抛光。在该抛光体系下电极（抛光工件）、放电介质、气层和抛光液四相共同作用，主要通过放电去除表面材料，区别于传统的化学去除，也区别于电解抛光体系下的电极、电解液的两相相互作用，利用电解液的电化学溶解抛光。金属等离子抛光与常见金属抛光方式对比不仅能解决传统机械抛光方法所存在的问题，对形状复杂的工件达到很好的抛光效果，并可以同时抛光多工件。同时在这些抛光方式中是环保的，抛光液为低浓度的中性盐溶液对环境几乎没有污染，抛光质量和效率都是传统抛光方法难以达到的。等离子抛光的缺点是目前功耗略高，认知度低。