研磨工艺成功的秘诀

在研磨抛光作业当中，能否达到预期的工艺效果，主要取决于研磨、研磨石、研磨剂的正确选用和合理的研磨工艺程序四大因素。因此，选择性能良好的研磨设备，研磨石（介质）、研磨剂以及制定科学合理的研磨工艺方案极其重要。 研磨石（研磨介质）的选用 1.形状尺寸： 在进行研磨作业之前，须全面地了解工件型面的凹槽、弯角、边角、空隙的形状和尺寸来选择研磨石的形状和尺寸，同时亦须考虑分选的方便性。 2.材质： 对即将要进行研磨的工件材质、硬度、密度等特性的了解非常重要。研磨石的选用主要依据工件材质的特性进行选择。研磨石的硬度、密度与工件材质的硬度、密度的配合必须相对合适；否则，将使研磨石在研磨作业当中无法起到研磨、抛光的作用，甚至造成工件撞伤或者将研磨工件破坏。 3.加工精度： 确定研磨工件加工品质要求。不同的表面品质要求，选择不同类型、功能的研磨石及不同的工艺方案。如去毛刺、去氧化皮、倒角、抛光等。 4.比例： 合理的加工工艺方案，研磨石与研磨工件的投入比例非常重要。否则，将造成工件互相碰撞或擦伤，损坏工件表面。确定投入比例主要根据工件品质的要求、工件材质、工件形状来考虑研磨石和工件的比例。一般研磨为5：1-6：1，要求达致镜面的或工件形状尖角较多的，可为10：1甚至更高的比例。

抛光性能和工作速率受哪些因素影响

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。