抛光性能和工作速率受哪些因素影响

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。

表面粗糙度及抛光技术

我们对物体的直观认识是从其表面是否光亮和整洁开始的。表面粗糙度和清洁度是人们在材料表面宏观认识中总结出来的两个重要的基础概念。表面粗糙度是衡量材料表面平整性的指示，清洁度是衡量材料表面残留吸附污垢量的指标。 表面粗糙度及抛光技术 常用表面粗糙度来定量描述表面的表面粗糙度。任何实际的材料表面都具有凹凸不平的表面轮廓。 在械加工制造工业中，零件表面粗糙度的等级常分为14及，用Ra表示的数值为：0.012、0.025、0.5、0.1、0.2、0.4、0.8、1.6、3.2、6.3、12.5、25、50、100。低表面粗糙度数值对应着高表面光洁度。历年表面粗糙度是衡量零件质量的意向重要指标。表面粗糙度低的零件表面摩擦力小，耐腐蚀性好，疲劳强度高，器运转能耗小，工件寿命长。所以，降低零件表面粗糙度是提高械产品质量的重要措施之一。