研磨工艺成功的秘诀

在研磨抛光作业当中，能否达到预期的工艺效果，主要取决于研磨、研磨石、研磨剂的正确选用和合理的研磨工艺程序四大因素。因此，选择性能良好的研磨设备，研磨石（介质）、研磨剂以及制定科学合理的研磨工艺方案极其重要。 研磨石（研磨介质）的选用 1.形状尺寸： 在进行研磨作业之前，须全面地了解工件型面的凹槽、弯角、边角、空隙的形状和尺寸来选择研磨石的形状和尺寸，同时亦须考虑分选的方便性。 2.材质： 对即将要进行研磨的工件材质、硬度、密度等特性的了解非常重要。研磨石的选用主要依据工件材质的特性进行选择。研磨石的硬度、密度与工件材质的硬度、密度的配合必须相对合适；否则，将使研磨石在研磨作业当中无法起到研磨、抛光的作用，甚至造成工件撞伤或者将研磨工件破坏。 3.加工精度： 确定研磨工件加工品质要求。不同的表面品质要求，选择不同类型、功能的研磨石及不同的工艺方案。如去毛刺、去氧化皮、倒角、抛光等。 4.比例： 合理的加工工艺方案，研磨石与研磨工件的投入比例非常重要。否则，将造成工件互相碰撞或擦伤，损坏工件表面。确定投入比例主要根据工件品质的要求、工件材质、工件形状来考虑研磨石和工件的比例。一般研磨为5：1-6：1，要求达致镜面的或工件形状尖角较多的，可为10：1甚至更高的比例。

精艺研磨简析如何获得光亮的金属抛光表面

为了获得光亮的电抛光表面，必须使表面上微观粗糙度降低到低于光的波长。要达此目的，通常认为应当形成比中间黏液层更厚、更致密、更易钝化的紧密层，它可以是趋于饱和的高黏度黏液层，也可以是固体层。这样，金属的溶解是在紧密膜内进行的，紧密膜的形成速度应当超过该膜的溶解速度，这是存在紧密膜的前提。在几乎无对流的特殊条件下，变得十分厚，也更加紧密，甚至可以出现光的干涉色。在这样厚的黏液膜或固体膜内，阳极电流密度变得非常小，它可以使微观的凸出部溶解，而微观的凹入部不再溶解，这就达到了微观整平目的。由于类似的状态在金属表面的多处均存在，使表面的各个部分均发生微观整平，这种表面的无序微观整平的终结果，就使金属表面变得光亮。所以电抛光实际上是阳极表面的宏观整平(一次电流分布)和微观整平(二次电流分布)作用的结果。只有宏观整平，阳极表面只能变得平滑，但不能产生光泽。有些电解液可以同时具有宏观整平与微观整平作用，在使用抛光抛光的阶段，形成的黏液膜的黏度还不够高，此时只起宏观整平作用。当宏观整平进行到一定程度后，形成的黏液膜更黏、更贴近金属表面，因此也可以起微观整平的作用，从而达到真正抛光的效果。