等离子抛光在金属表面处理行业的应用

1.一般需要做真空镀膜或真空镀膜的产品，在镀膜前都会先做清洗工艺，部份客户取用等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜工艺。特别是对于那些用布轮或者是麻轮做过抛光处理的产品就显得尤为重要。因为产品在经过轮子抛光后易留下轮纹，造成表面阴阳色或颜色不均匀现象发生，这样经过真空镀膜后就会呈现得更为明显，呈现出镀膜颜色不均匀，阴阳面等。 2.采用等离子抛光工艺比清洗工艺良率要多30%以上，给前工序抛光工艺为抛除表面的轮纹减小很大压力，产能明显上升。主要原因是我们利用等离子抛光能够很好的提高产品的光泽度、降低产品表面粗糙度及提高表面硬度。 3.抛光镭射后再做真空镀膜的产品也需要先做清洗工艺，然后再做真空镀膜工艺。这是因为产品在镭射时表面容易产生发黄和吸附一些废渣，简单的清洗根本去除不干净。如果清洗不干净则会造成真空镀膜颜色不均和麻点等不良现象。采用等离子抛光工艺，可使产品清洁度大大提高，使良率明显提升10一20%。 4.抛光拉丝后再做真空镀膜的产品也需要先做等离子抛光工艺，然后再做真空镀膜。这是因为产品在拉丝过程中很容易使砂砾拉伤表面或者尼龙丝被高温烧焦吸附在工件拉丝位，简单的清洗根本没办法去除干净。如果清洗不干净也会给真空镀膜造成麻点，砂眼和颜色不均。 5.需要真空镀膜的产品，前工序好先做等离子抛光，因为等离子抛光可以充分去除工件冲裁面的批锋、利角和表面脏污。从而使得真空镀膜的膜附着力大大增强，特别是冲裁面的边角位不易脱膜，能将镀膜附着力良率提高15%以上。 6.等离子抛光工艺还有退掉镀膜的功效，我们只要通过特定的抛光剂，在短的时间(30~1805)就可以完全脱掉镀膜。这样大大节省脱膜时间。对于那些表面真空镀氮化碳或氮化铬的产品，脱膜相对较难，通过等离子抛光也能完全将表面膜层去除干净，但是抛光时间需要延长一倍以上。虽说抛光时间相对增加，但仍然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率(因为等离子抛光能很好提高表面的光泽度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光洁，导电性能好)。退镀前产品图片退镀后产品图片综上所述，等离子抛光的确是真空镀膜或真空镀膜前处理不可缺少的工艺，并且以对人体无伤害，对环境无污染，成本低的 优势压倒电解工艺，同时也为真空镀膜或真空镀膜解除更多的不良因素，为真空镀膜或真空镀膜出高品质的产品而多做贡献。

电解研磨与化学研磨有什么不同？

电解研磨：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠电流能量阳极溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨抛光：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠化学能量自然溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨仅仅是浸渍作业，操作简单；而电解研磨抛光需要大容量直流电，还要合理设置电流对极，控制电流电压，操作工艺复杂，质量控制困难，有些特殊工件还不能处理。人们一直期待着更佳完善的研磨方法出现，虽然这期间出现了一些纯化学研磨抛光技术，但是与电解研磨方式相比，满足其光泽环保以及研磨效果等重要技术指标的产品一直没有出现。 用化学反应溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 用电化学反应阳极溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 通过切削、塑性变形和磨耗等方式将研磨工件表面变成平滑光亮的过程 电解研磨表面经过化学反应后生成一层保护膜，耐腐蚀性和耐磨性提高，光泽持久。由于塑性变形的影响表面生成加工硬化层和晶格组织结构变化，耐腐蚀性和耐磨性减弱，容易再次氧化发乌，光泽不持久。表面凹凸平滑连续均匀，流动阻力小。被研磨表面平滑连续性不好，凹凸部流动阻力大，表面无付着物。被研磨表面沾附有金属粒，砂粒，研磨膏油脂等杂质，微小毛刺毛边可以很容易除去，100μm以下可以，根据场合工件有时不能处理，微小毛刺毛边不能除去100μm以上可以反光性好,反射能高，正反射率超过９０％，由于杂乱反射,反射能低，正反射率6０％，工件不产生应力变形。加工后的工件产生加工应力变形，由于表面凹凸差小，抗疲劳强度增加10～20%。容易产生疲劳强度，对于导电物质而言，接触面改善冷放射电弧火花不易产生导电性增加，由于毛刺毛边的影响接触面接触不佳易产生火花电弧等，电解研磨任何复杂形状的工件,线状薄板等均可研磨抛光。由于电流分布的影响有些形状的工件不能处理,电线接头处不能处理特殊形状工件不能研磨或者很难研磨。