平面研磨中的要求

①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近； ②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损； ③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳； ④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。图为常用的平面研磨运动轨迹。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米／分，精研速度一般取10～30米／分。

金刚石研磨液

金刚石研磨液、抛光液适用于金属精密材料、光学晶体、陶瓷、硬质材料的研磨、抛光。 产品特点、由多晶金刚石颗粒分散于介质而成；纳米金刚石微粒由多个原晶组成，原晶近似球状，在研磨过程中不会产生锋刃，因此可得到很好的表面光洁度。硬盘、磁头等材料的精密抛光；细粒度的可用作添加剂。纳米金刚石抛光液(NDL)：具有良好的分散稳定性，适用于超精密抛光。 产品特点、由纳米金刚石粒分散于介质而成；纳米金刚石微粒由多个原晶组成，原晶近似球状，在研磨过程中不会产生锋刃，因此可得到很好的表面光洁度。产品应用硬盘、磁头等材料的精密抛光。