金属等离子抛光与常见金属抛光方式对比

目前常用的抛光方式有机械抛光、化学抛光、电解抛光等。 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主。对表面质量要求高的可采用超精研抛的方法，利用该技术可以达到?Ra0.008?μm?的表面粗糙度，是各种抛光方法中高的，光学镜片模具常采用这种方法。机械抛光的缺点是劳动强度大，污染严重，复杂零件无法加工，且其光泽不能一致,光泽保持时间不长，发闷、生锈。比较适合加工简单件，中、小产品。 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10?μm?。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光的缺点是光亮度差,有气体溢出，需要通风设备，加温困难。适合加工小批量复杂件及小零件光亮度要求不高的产品。 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。其缺点是防污染性高，加工设备一次性投资大，复杂件要工装、辅助电极，大量生产还需要降温设施。 等离子抛光是利用气液等离子体发生技术，将工件置于抛光液中，施加一定的直流电压，使工件周围的抛光液汽化，形成一个包围工件的气层，通过在气层的不同位置形成放电通道，将表面材料有选择地去除，实现对金属工件表面抛光。在该抛光体系下电极（抛光工件）、放电介质、气层和抛光液四相共同作用，主要通过放电去除表面材料，区别于传统的化学去除，也区别于电解抛光体系下的电极、电解液的两相相互作用，利用电解液的电化学溶解抛光。金属等离子抛光与常见金属抛光方式对比不仅能解决传统机械抛光方法所存在的问题，对形状复杂的工件达到很好的抛光效果，并可以同时抛光多工件。同时在这些抛光方式中是环保的，抛光液为低浓度的中性盐溶液对环境几乎没有污染，抛光质量和效率都是传统抛光方法难以达到的。等离子抛光的缺点是目前功耗略高，认知度低。

电解研磨与化学研磨有什么不同？

电解研磨：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠电流能量阳极溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨抛光：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠化学能量自然溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨仅仅是浸渍作业，操作简单；而电解研磨抛光需要大容量直流电，还要合理设置电流对极，控制电流电压，操作工艺复杂，质量控制困难，有些特殊工件还不能处理。人们一直期待着更佳完善的研磨方法出现，虽然这期间出现了一些纯化学研磨抛光技术，但是与电解研磨方式相比，满足其光泽环保以及研磨效果等重要技术指标的产品一直没有出现。 用化学反应溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 用电化学反应阳极溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 通过切削、塑性变形和磨耗等方式将研磨工件表面变成平滑光亮的过程 电解研磨表面经过化学反应后生成一层保护膜，耐腐蚀性和耐磨性提高，光泽持久。由于塑性变形的影响表面生成加工硬化层和晶格组织结构变化，耐腐蚀性和耐磨性减弱，容易再次氧化发乌，光泽不持久。表面凹凸平滑连续均匀，流动阻力小。被研磨表面平滑连续性不好，凹凸部流动阻力大，表面无付着物。被研磨表面沾附有金属粒，砂粒，研磨膏油脂等杂质，微小毛刺毛边可以很容易除去，100μm以下可以，根据场合工件有时不能处理，微小毛刺毛边不能除去100μm以上可以反光性好,反射能高，正反射率超过９０％，由于杂乱反射,反射能低，正反射率6０％，工件不产生应力变形。加工后的工件产生加工应力变形，由于表面凹凸差小，抗疲劳强度增加10～20%。容易产生疲劳强度，对于导电物质而言，接触面改善冷放射电弧火花不易产生导电性增加，由于毛刺毛边的影响接触面接触不佳易产生火花电弧等，电解研磨任何复杂形状的工件,线状薄板等均可研磨抛光。由于电流分布的影响有些形状的工件不能处理,电线接头处不能处理特殊形状工件不能研磨或者很难研磨。