难容金属表面性质和特点

难熔金属是指熔点很高，又具有极好耐蚀性的金属，如钛、钨、钼、钽、铌、锆、铪及其合金等。虽然这些金属比较 ，但有许多优异性能，近年来被用于石油、化工、航空、航天和核工业等部门。周金保对这类金属的化学抛光作了归纳整理。 难熔金属具有以下一些性质。 ①难熔金属熔点很高，超过2000℃的有W、Ta、Mo、Nb，其余也都超过铁的熔点，因此具有高度的热稳定性和强固性。 ②难熔金属具有强烈的氧化趋势，容易形成稳定的钝化膜，在大气和一般工业介质中具有较好的耐蚀性。 ③耐熔金属具有强烈的吸氢性质。因此在表面处理时容易产生氢脆，从而使材料的力学性能降低。难熔金属化学抛光之后，般需在250。C下进行除氢。 ④虽然耐熔金属具有很高的耐蚀性，但是在含氢氟酸的混合液中，其耐蚀状态很快破坏，表面由钝态转为活态。根据这一特点，几乎所有化学抛光液中都含有氢氟酸、氟化物或曳其他卤化物。 ⑤化学抛光液不需要很高的温度。在抛光过程中金属表面均匀溶解，几乎不发生点腐蚀。如果为了削减尺寸的工艺目的，也可选用较高的温度来增加金属的溶解速率。 ⑥化学抛光液的基本组成物除各种无酸外，还需要加入各种添加剂，目的是抑制腐蚀和增加光泽，如甘油、苯胺及芳香族胺类等。 ⑦难熔金属经热加工后，表面形成复杂的氧化物，为便于化学拋光需对表而预先讲行疏木松（碱煮）处理。

精艺研磨简析如何获得光亮的金属抛光表面

为了获得光亮的电抛光表面，必须使表面上微观粗糙度降低到低于光的波长。要达此目的，通常认为应当形成比中间黏液层更厚、更致密、更易钝化的紧密层，它可以是趋于饱和的高黏度黏液层，也可以是固体层。这样，金属的溶解是在紧密膜内进行的，紧密膜的形成速度应当超过该膜的溶解速度，这是存在紧密膜的前提。在几乎无对流的特殊条件下，变得十分厚，也更加紧密，甚至可以出现光的干涉色。在这样厚的黏液膜或固体膜内，阳极电流密度变得非常小，它可以使微观的凸出部溶解，而微观的凹入部不再溶解，这就达到了微观整平目的。由于类似的状态在金属表面的多处均存在，使表面的各个部分均发生微观整平，这种表面的无序微观整平的终结果，就使金属表面变得光亮。所以电抛光实际上是阳极表面的宏观整平(一次电流分布)和微观整平(二次电流分布)作用的结果。只有宏观整平，阳极表面只能变得平滑，但不能产生光泽。有些电解液可以同时具有宏观整平与微观整平作用，在使用抛光抛光的阶段，形成的黏液膜的黏度还不够高，此时只起宏观整平作用。当宏观整平进行到一定程度后，形成的黏液膜更黏、更贴近金属表面，因此也可以起微观整平的作用，从而达到真正抛光的效果。