化学抛光可能出现的缺陷

化学拋光中出现的缺陷及其纠正措施是在生产的发展过程中不断总结完善的。很多缺陷的产生都是由于金属组成及表面状况引起的，抛光液的组成也会影响抛光质量，化学拋光生产过程中常见的陷可归纳如下。 (1)光亮度不足这是化学抛光中关心的事情。光亮度没有达到预期的目标，其原因可从材料成分和化学拋光工艺两方面分析。一种拋光液对某几种组成的材料有好的抛光效果，但当合金成分变化大时抛光的光亮度就会下降。虽然有通用性的拋光液，但其拋光效果并不能达到好。所以，当材料成分变化后化学抛光液也需要作适当的调整。在一些工艺配方中，当氧化剂含量低时或溶液的相对密度低时容易出现光亮度不足的缺陷。 (2)工件表面有附着物这种情况有可能是槽液中某些有害的物质的含量超过允许值，这时应采取措施将槽液中的有害物质降到允许范围内。另外，溶液的相对密度高时可能会使表面出现附着物。 (3)表面粗糙化学抛光后的材料表面出现粗糙现象，从槽液的角度考虑可能是抛光反应剧烈，酸性浸蚀过强造成的；从材料角度考虑，内部组织缺陷多时，如铸造或压铸的工件孔隙多也会引起表面粗糙。 (4)点状、条状、块状斑痕该类缺陷有可能是气体逸出不畅或只沿着工件表面一定通道上升而形成，也有可能是前处理或水洗效果不佳造成。

电解研磨与化学研磨有什么不同？

电解研磨：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠电流能量阳极溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨抛光：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠化学能量自然溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨仅仅是浸渍作业，操作简单；而电解研磨抛光需要大容量直流电，还要合理设置电流对极，控制电流电压，操作工艺复杂，质量控制困难，有些特殊工件还不能处理。人们一直期待着更佳完善的研磨方法出现，虽然这期间出现了一些纯化学研磨抛光技术，但是与电解研磨方式相比，满足其光泽环保以及研磨效果等重要技术指标的产品一直没有出现。 用化学反应溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 用电化学反应阳极溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 通过切削、塑性变形和磨耗等方式将研磨工件表面变成平滑光亮的过程 电解研磨表面经过化学反应后生成一层保护膜，耐腐蚀性和耐磨性提高，光泽持久。由于塑性变形的影响表面生成加工硬化层和晶格组织结构变化，耐腐蚀性和耐磨性减弱，容易再次氧化发乌，光泽不持久。表面凹凸平滑连续均匀，流动阻力小。被研磨表面平滑连续性不好，凹凸部流动阻力大，表面无付着物。被研磨表面沾附有金属粒，砂粒，研磨膏油脂等杂质，微小毛刺毛边可以很容易除去，100μm以下可以，根据场合工件有时不能处理，微小毛刺毛边不能除去100μm以上可以反光性好,反射能高，正反射率超过９０％，由于杂乱反射,反射能低，正反射率6０％，工件不产生应力变形。加工后的工件产生加工应力变形，由于表面凹凸差小，抗疲劳强度增加10～20%。容易产生疲劳强度，对于导电物质而言，接触面改善冷放射电弧火花不易产生导电性增加，由于毛刺毛边的影响接触面接触不佳易产生火花电弧等，电解研磨任何复杂形状的工件,线状薄板等均可研磨抛光。由于电流分布的影响有些形状的工件不能处理,电线接头处不能处理特殊形状工件不能研磨或者很难研磨。