为了获得光亮的电抛光表面，必须使表面上微观粗糙度降低到低于光的波长。要达此目的，通常认为应当形成比中间黏液层更厚、更致密、更易钝化的紧密层，它可以是趋于饱和的高黏度黏液层，也可以是固体层。这样，金属的溶解是在紧密膜内进行的，紧密膜的形成速度应当超过该膜的溶解速度，这是存在紧密膜的前提。在几乎无对流的特殊条件下，变得十分厚，也更加紧密，甚至可以出现光的干涉色。在这样厚的黏液膜或固体膜内，阳极电流密度变得非常小，它可以使微观的凸出部溶解，而微观的凹入部不再溶解，这就达到了微观整平目的。由于类似的状态在金属表面的多处均存在，使表面的各个部分均发生微观整平，这种表面的无序微观整平的终结果，就使金属表面变得光亮。所以电抛光实际上是阳极表面的宏观整平(一次电流分布)和微观整平(二次电流分布)作用的结果。只有宏观整平，阳极表面只能变得平滑，但不能产生光泽。有些电解液可以同时具有宏观整平与微观整平作用，在使用抛光机抛光的 阶段，形成的黏液膜的黏度还不够高，此时只起宏观整平作用。当宏观整平进行到一定程度后，形成的黏液膜更黏、更贴近金属表面，因此也可以起微观整平的作用，从而达到真正抛光的效果。

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