模具镜面抛光是重要的一点是抛光的尺寸，油石研磨到镜面抛光的距离是10μ。（理想是＃1500油石开始进行研磨）基本的原则，在进行下一步作业之前，一定要将模仁彻底清洗干净，才会达到好效果。要非常慎重不要重复修改。 模具抛光操作是一项耗费时间和费用昂贵的工序，选择合理的抛光工艺可以降低模具抛光成本。模具抛光过程中的每一个步骤都必须要保持清洁，这一点重要。 1、开始抛光时要先处理角落、边角和圆角等较难抛光的地方。2、每个抛光工具只使用一个级别的抛光钻石膏，并存放在防尘或密封的容器内。 3、模具处理尖角及边角时应特别小心，注意不要形成圆角或圆边，应尽量采用较硬的抛光工具进行模具的研磨和油石打磨。 4、模具抛光必须在清洁无尘的室内进行。因为硬尘粒会污染研磨材料，损害已接近完成的模具表面。 5、当要转换更细一级的砂号时，必须进行清洗模具和双手。 抛光的后一个程序有两种方法：一是电动工具和气动工具的抛光方法；二是手工抛光方法。但是对于平面形状和球面形状也有不同的情况。

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。