抛光方法 尽管金属表面抛光的方法有很多种，但在工业生产中占有市场份额较大、使用得较多的只有械抛光、化学抛光和电化学抛光这三种方法。因为这三种方法经过长期的使用不断得到改进、提高与完善，其方法与工艺能适合不同条件和要求的抛光，能够在保证产品质量的同时生产效率相对较高、生产成本低、经济效益好。其余的抛光方法有些是属于这三种方法的范畴或由这些方法衍生出来的，有些则是只能应用于特殊材料或特种加，工需要的抛光方法，这些方法可能掌握较困难、复杂、成本高等。 械抛光方法是靠切削、研磨使材料表面塑性变形，压低材料被抛光面的凸部向凹处填平并使得表面粗糙度减小而变得平滑，以改善制品的表面粗糙度，使产品光亮美观或为后续表面加Ⅱ（电镀、化学镀、涂饰）做准备。目前，械抛光方法大部分还是使用原有的械轮抛光、皮带抛光等较原始陈旧的方法，特别是在许多劳动密集型的电镀行业，其简单、容易操作，靠工人的熟练程度及目视控制抛光质量，能加工各种形状简单的小型工件。

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。