





研磨液和光亮剂的化学成分研磨液为碱性,长时间直接接触会对皮肤有一点腐蚀,但危害不大。可以带塑胶手套,光亮剂也是有酸和碱两种,只要带塑胶手套危害都不大。切记不要直接接触,光亮剂腐蚀性更大。从行业角度看,应该对人无危害,这就要你去选择了,差的就对人有危害,手会掉皮的。使用这类两种产品的工作人员必须要做好一些安全的保护措施。虽然都对人体危害不大,但长时间多多少少会对皮肤有伤害。 优点 1、调制磨料; 2、含特种极压润滑添加剂,研磨过程中降温,及时冷却刀具,可显著减少刀具磨损; 3、采用高分子水/油溶性防锈剂,对及工件有极好的防锈性; 4、低泡沫倾向,清洗性能好,代替传统乳化油; 5、透明度高,有利于监察工件的表面加工状态; 6、使用寿命长,一年以上更换期,符合环保要求,减少浪费,提高生产效率。 7、对操作工人皮肤无伤害、及台油漆无影响,且有保护作用。 8、光亮剂加工质量高,速度快,效果明显,被加工后的零件表面光亮照人,可解决人工抛光不能解决的问题。并且给您的下道工序提供了较好的基础面。

抛光是工件表面处理必要的设备,很多老司总是在想,“能不能抛光效果更好一点,抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题,我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关,之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度,即抛光性能,是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动,有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹,行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹,其均匀性明显好于定偏心式轨迹,有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘,而是具有柔性的砂带,工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单,如将研磨带加长可以形成批量生产,生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势,是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨,当改变研磨盘转速和太阳转速之比时,工作效率及材料去除率会发生变化。

