平面研磨机和平面抛光机都是表面处理行业常用到的设备，虽然这两者都是适用于平面的工件，但还是有很多不同的，接下来就从以下几个方面来阐述它们之间的差别。 首先是用途上的差别，平面研磨机主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。而平面抛光机是处理平面工件的塌边现象，平滑，斑点，祛除工件表面的划痕，完成超精密加工使工件表面光滑以达到镜面效果。 其次是工作原理的差别，平面研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。而平面抛光机是通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。 很多对平面研磨机和平面抛光机分不清的朋友看完这篇文章应该有所了解，明白这两者的区别有哪些。平面研磨机和平面抛光机是表面处理的美化师，为我们呈现众多不同的表面美观的工件。

一是关于原料的配制，我们需要借助更科学合理的配比方法来增强平板抛光所拉出的扁丝的物理性能。通常情况下，如果在母料当中，增加一定量的填充母料，将会使扁丝的拉伸强度有所减少。 第二个方面的问题就是关于冷却水的温度，也就是冷却效果。这一因素与平板抛光的一个关键部件联系密切，就是水箱，正常情况下，水温应当保持在四十度到六十度的范围内，才可以达到较为理想的冷却效果。这是因为冷却水温过高或者是过低，都不利于膜片冷却成形后的物理性能。 而在其的生产过程中，会对抛光产品的品质和性能带来严重影响的一项重要工作，就是关于如何调控其的拉伸强度。如果没有调控到理想的状态，那么可能就会对抛光的生产工作带来负面影响，因此，我们需要按照一定的要求来进行调控。那么，究竟该如何来操作呢? 应当考虑的一个方面，就是关于在生产过程中，所采用的拉伸工艺是否操作合理。在平板抛光加工过程中，对于扁丝的拉伸就意味着是把冷却定型后的扁丝加热至较高的温度，是控制在玻璃化温度和软化点温度之间，这样就可以得到很好的控制。