抛光盘的平面精度与平面抛光精度的联系

平面抛光机加工件抛光盘的平面精度与其精度的保持性决定了平面抛光的精度。因此为了使工件获得高精度的加工平面，必须使用高精度平面的抛光盘。在抛光高精度面积较小的平面加工件时，要使用弹性形变小并且能始终保持平面度的抛光盘。所以在平面抛光盘上涂上一层弹性或软金属材料或者是采用特种玻璃作为抛光盘，都可以获得高精度的表面质量。 在工件材质比较软时，如光学玻璃等，有时可以使用软质的抛光盘(如石蜡盘及沥青盘等)或半软质的抛光盘(如铅盘及锡盘等)来获得高精度的光滑无损伤表面。使用软质的抛光盘，抛光后得到的工件表面具有表面粗糙度与讲过变质层都很小的优点，但存在不易保存工件平面度的缺点，对工件平面度产生影响。 在使用软质的抛光盘时，为了确保得到工件的高精度表面，可以采取的措施有以下几点: (1)废弃己经磨损变形的抛光盘; (2)尽量使用耐磨损好的抛光盘; (3)修整磨损变形。可采用人工修整抛光盘的平面，也可利用标准平板与抛光盘对研修整。

工件的大小对研磨难度的影响

由于大工件在研磨时，所磨的面积比小工件要大很多，所以选择的研磨盘，压重块等肯定也是要大很多的。大面积的工件在固定和加压时，如果稍微有一点点受力不均匀，所受到的张力也就越大，容易产生断裂。而小工件，这种压力点不均匀的概率远远低于大尺寸工件，并且小工件平放受压时所受张力没那么大，不容易碎。 其次，我们进行对比论证：400mm直径的工件和30mm直径的工件同时放在研磨抛光机加工件上进行研磨，面积小的比面积大的受力均匀，切削速度也要快一倍。而面积大的工件，磨削过程中由于受力面广，效果不均匀的概率要大，所以更加难以实现效果。 ，我们举一个实际的例子来进行 说明：我们从实验室拿两块厚度均等的硅片来做实验，硅片1，直径500mm厚度1mm，硅片2，直径20mm，厚度1mm，将他们同时放到13-6B双面研磨机加工件上进行研磨。要求效果：平面度2u,平行度：2u，镜面效果。开启设备后，采用相同的研磨耗材对两块工件同时研磨，在研磨10分钟后，硅片1，表面三项指标均为达到；硅片2， 达到。 由此三点，我们得出大小工件研磨难度有着很大差异性。在研磨要求均等的情况下，大工件较难实现一些，且所花的时间更长一些。而小工件则较易实现，研磨效率也要高于大尺寸工件。