抛光盘的平面精度与平面抛光精度的联系

平面抛光机加工件抛光盘的平面精度与其精度的保持性决定了平面抛光的精度。因此为了使工件获得高精度的加工平面，必须使用高精度平面的抛光盘。在抛光高精度面积较小的平面加工件时，要使用弹性形变小并且能始终保持平面度的抛光盘。所以在平面抛光盘上涂上一层弹性或软金属材料或者是采用特种玻璃作为抛光盘，都可以获得高精度的表面质量。 在工件材质比较软时，如光学玻璃等，有时可以使用软质的抛光盘(如石蜡盘及沥青盘等)或半软质的抛光盘(如铅盘及锡盘等)来获得高精度的光滑无损伤表面。使用软质的抛光盘，抛光后得到的工件表面具有表面粗糙度与讲过变质层都很小的优点，但存在不易保存工件平面度的缺点，对工件平面度产生影响。 在使用软质的抛光盘时，为了确保得到工件的高精度表面，可以采取的措施有以下几点: (1)废弃己经磨损变形的抛光盘; (2)尽量使用耐磨损好的抛光盘; (3)修整磨损变形。可采用人工修整抛光盘的平面，也可利用标准平板与抛光盘对研修整。

浅析硅片抛光机加工件的两种抛光方式

硅片抛光机加工件如何解决这个矛盾的 的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有 大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到 小。 硅片抛光机加工件不是碾除整体的糠层，是通过碾除细微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉细粒，抛光机加工件抛光和碾白从工作方面比较存在着很大的差别，抛光机加工件抛光压力很低，抛光机加工件抛光米粒的时候流体密度很小，抛光时米粒离开铁辊的速度很快，而且抛光机加工件单位产量抛光运动面积很大。