磨料颗粒度对流体抛光粗糙度的影响

流体抛光后，工件抛光面粗糙度与两个因素有 直接的关系，一是抛光面原始粗糙度大小，原始粗糙度越好，抛光后的粗糙度越低；二是磨料颗粒度大小，但与我们常规思维不同，并不是颗粒度越细，抛后的粗糙度就越低。应该是抛光面原始粗糙度越好，那么就选用颗粒度更细的磨料，抛出来的粗糙度越低。如果原始粗糙度较高，直接用细磨料，并不能抛出很好的效果，得先用较粗磨料粗抛，然后用细磨料精抛。 当工件待抛光面原始粗糙度较高时，细磨料只能去除一些较细的颗粒，而较粗的颗粒，反而会被研磨隔离。所以先用粗磨料，将较大的粗糙颗粒切削掉，再精抛，将小颗粒粗糙部位磨平。 同样的，如果待抛光面的原始粗糙度已经很好了，就必须选用颗粒度更细的磨料，否则会在表面留下划痕。

平面研磨机和平面抛光机的差别论

平面研磨机和平面抛光机都是表面处理行业常用到的设备，虽然这两者都是适用于平面的工件，但还是有很多不同的，接下来就从以下几个方面来阐述它们之间的差别。 首先是用途上的差别，平面研磨机主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。而平面抛光机是处理平面工件的塌边现象，平滑，斑点，祛除工件表面的划痕，完成超精密加工使工件表面光滑以达到镜面效果。 其次是工作原理的差别，平面研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。而平面抛光机是通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。 很多对平面研磨机和平面抛光机分不清的朋友看完这篇文章应该有所了解，明白这两者的区别有哪些。平面研磨机和平面抛光机是表面处理的美化师，为我们呈现众多不同的表面美观的工件。