细谈平面抛光机镜面加工技术

平面抛光机镜面加工技术是一门新兴的综合性加工技术，它集成了现代机械、光学、电子计算机、测量及材料等先进技术成就，已成为国家科学技术发展水平的重要标志。随着各种新型功能陶瓷材料的不断研制成功，以及这些材料在各种高性能电子元器件、光学、信息系统等领域的广泛应用，要求元件和零件的加工精度越来越高，有的甚至要求达到纳米级或更高的加工精度以及无损伤的表面加工质量。 对于抛光来说，主要是在维持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面损伤层，以获得镜面光度。所以要求均与、无方向性地抛光整个工件表面。反映在抛光机速度上，就是工件表面上每一点的相对速度大小应在任何时候都保持恒定。 工件是不变形的刚体，抛光机的抛光盘是能按工件加工面形状变形的弹性体。这时可以忽略介于两者之间的磨粒与加工液的厚度和形状变化，认为工件与抛光盘间全面贴紧；当工件尺寸大于抛光盘半径，或偏心距过大时，工件会露出抛光盘，既有一部分表面不能与抛光盘始终接触；当研磨或抛光过程中，工件材料平行度误差超出允许范围时就需要对其平行度进行修正。在平面抛光机的镜面抛光加工工序中，可以认为工件的去除量主要是由磨削路径的长度决定的，因此直接控制工件表面的磨削路径长度能够更加精确控制工件的去除量。

磨料颗粒度对流体抛光粗糙度的影响

流体抛光后，工件抛光面粗糙度与两个因素有 直接的关系，一是抛光面原始粗糙度大小，原始粗糙度越好，抛光后的粗糙度越低；二是磨料颗粒度大小，但与我们常规思维不同，并不是颗粒度越细，抛后的粗糙度就越低。应该是抛光面原始粗糙度越好，那么就选用颗粒度更细的磨料，抛出来的粗糙度越低。如果原始粗糙度较高，直接用细磨料，并不能抛出很好的效果，得先用较粗磨料粗抛，然后用细磨料精抛。 当工件待抛光面原始粗糙度较高时，细磨料只能去除一些较细的颗粒，而较粗的颗粒，反而会被研磨隔离。所以先用粗磨料，将较大的粗糙颗粒切削掉，再精抛，将小颗粒粗糙部位磨平。 同样的，如果待抛光面的原始粗糙度已经很好了，就必须选用颗粒度更细的磨料，否则会在表面留下划痕。