磨料颗粒度对流体抛光粗糙度的影响

流体抛光后，工件抛光面粗糙度与两个因素有 直接的关系，一是抛光面原始粗糙度大小，原始粗糙度越好，抛光后的粗糙度越低；二是磨料颗粒度大小，但与我们常规思维不同，并不是颗粒度越细，抛后的粗糙度就越低。应该是抛光面原始粗糙度越好，那么就选用颗粒度更细的磨料，抛出来的粗糙度越低。如果原始粗糙度较高，直接用细磨料，并不能抛出很好的效果，得先用较粗磨料粗抛，然后用细磨料精抛。 当工件待抛光面原始粗糙度较高时，细磨料只能去除一些较细的颗粒，而较粗的颗粒，反而会被研磨隔离。所以先用粗磨料，将较大的粗糙颗粒切削掉，再精抛，将小颗粒粗糙部位磨平。 同样的，如果待抛光面的原始粗糙度已经很好了，就必须选用颗粒度更细的磨料，否则会在表面留下划痕。

平面抛光研磨表面处理的性能受到哪些挑战

平面抛光研磨表面处理适用于各种材料研磨抛光，在光学玻璃、石英晶片、硅片、LED蓝宝石衬底等要求超薄工件的领域中作用突出。互联网的生活将人们的衣食住行紧紧地联系在一起，进而对手机的需求越来越大，而平面抛光研磨表面处理行业也正在不断发展。 然而，随着对研磨产品的性能要求不断提高，平面抛光研磨表面处理性能也在不断受到挑战。具体来说，石英晶片、硅片等要求厚度越来越薄，为了提高振荡频率。而蓝宝石衬底片为了利于散热也在要求厚度变薄，手机零件方面对工件的精度、光洁度要求也越来越高。 总而言之，平面抛光研磨表面处理要应对这些挑战，厂家一方面要改善设备的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技术。