平面研磨机和平面抛光机都是表面处理行业常用到的设备，虽然这两者都是适用于平面的工件，但还是有很多不同的，接下来就从以下几个方面来阐述它们之间的差别。 首先是用途上的差别，平面研磨机主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。而平面抛光机是处理平面工件的塌边现象，平滑，斑点，祛除工件表面的划痕，完成超精密加工使工件表面光滑以达到镜面效果。 其次是工作原理的差别，平面研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。而平面抛光机是通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。 很多对平面研磨机和平面抛光机分不清的朋友看完这篇文章应该有所了解，明白这两者的区别有哪些。平面研磨机和平面抛光机是表面处理的美化师，为我们呈现众多不同的表面美观的工件。

流体抛光的一大显著特点就是抛光后，内壁光洁度非常均匀。如下图工件，就是利用流体抛光，我们将工件切开后，可以看到其内壁光洁度非常均匀。使用粗糙度测量仪测量，其粗糙度在Ra0.2μm上下不过0.01左右。 因为流体抛光所使用的高分子弹性软磨料，具有挤压膨胀的特点，进入工件内孔后，在压力的作用下，会具有膨胀效应，从而充斥内孔，与内壁充分贴合。而且上下循环式抛光，为内孔光洁度的均匀性更添保障。 使用600机型的流体抛光机，我们制作一套专用工装，每套工装放置6-8个产品，花费3分钟左右的时间，即可抛光一组产品，单个产品抛光时间不超过30秒。如果再配合自动旋转盘，可以一边抛光，一边清理残留磨料并装夹，更是节省了大量的等待时间。 抛光全过程采用PLC控制，如果突遇停电或其他情况，通电后，设备会自动延续之前的抛光节拍，将已抛光时间减去，抛光完剩下的时间，不会造成宕机报废的事情。