平面抛光机镜面加工技术是一门新兴的综合性加工技术，它集成了现代机械、光学、电子计算机、测量及材料等先进技术成就，已成为国家科学技术发展水平的重要标志。随着各种新型功能陶瓷材料的不断研制成功，以及这些材料在各种高性能电子元器件、光学、信息系统等领域的广泛应用，要求元件和零件的加工精度越来越高，有的甚至要求达到纳米级或更高的加工精度以及无损伤的表面加工质量。 对于抛光来说，主要是在维持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面损伤层，以获得镜面光度。所以要求均与、无方向性地抛光整个工件表面。反映在抛光机速度上，就是工件表面上每一点的相对速度大小应在任何时候都保持恒定。 工件是不变形的刚体，抛光机的抛光盘是能按工件加工面形状变形的弹性体。这时可以忽略介于两者之间的磨粒与加工液的厚度和形状变化，认为工件与抛光盘间全面贴紧；当工件尺寸大于抛光盘半径，或偏心距过大时，工件会露出抛光盘，既有一部分表面不能与抛光盘始终接触；当研磨或抛光过程中，工件材料平行度误差超出允许范围时就需要对其平行度进行修正。在平面抛光机的镜面抛光加工工序中，可以认为工件的去除量主要是由磨削路径的长度决定的，因此直接控制工件表面的磨削路径长度能够更加精确控制工件的去除量。

流体抛光的一大显著特点就是抛光后，内壁光洁度非常均匀。如下图工件，就是利用流体抛光，我们将工件切开后，可以看到其内壁光洁度非常均匀。使用粗糙度测量仪测量，其粗糙度在Ra0.2μm上下不过0.01左右。 因为流体抛光所使用的高分子弹性软磨料，具有挤压膨胀的特点，进入工件内孔后，在压力的作用下，会具有膨胀效应，从而充斥内孔，与内壁充分贴合。而且上下循环式抛光，为内孔光洁度的均匀性更添保障。 使用600机型的流体抛光机，我们制作一套专用工装，每套工装放置6-8个产品，花费3分钟左右的时间，即可抛光一组产品，单个产品抛光时间不超过30秒。如果再配合自动旋转盘，可以一边抛光，一边清理残留磨料并装夹，更是节省了大量的等待时间。 抛光全过程采用PLC控制，如果突遇停电或其他情况，通电后，设备会自动延续之前的抛光节拍，将已抛光时间减去，抛光完剩下的时间，不会造成宕机报废的事情。