如下图工件，材质为硬度较高的合金钢，并有一定的磁性。需要将工件上这些孔内壁抛光至镜面。用什么设备可以将这些孔同时抛光呢？当然是流体抛光。 抛光前的孔内壁粗糙程度肉眼可见，且氧化层严重影响光泽感，让产品看起来非常“低档”。同样的光线条件下，流体抛光后的孔内壁完全呈镜面状态，粗糙度从0.4下降到0.1，孔口毛刺也被清理干净。而且产品本身的磁性仍然得到很好的保持，并没有出现消磁现象。 上图可以很好地帮助我们理解流体抛光原理，是怎么同时处理一个多孔工件内壁抛光的。黑色部分为高分子碳化硅弹性软磨料，经过增压系统挤入工件内孔，通过快速流动进行研磨，几分钟就可以抛光完成。如果我们只想抛其中某一个孔，也可以做到，只需要将其他孔堵住或是设计相关工装即可。

先是粗抛，其目地是除掉粗抛形成的表层损害，使抛光损有的抛光速度，粗抛发生的表层损害是主次的考虑到，可是也理应尽量小； 次之是精抛(或称终抛)，其目地是除掉粗抛形成的表层损害，使抛光损害减到更少。 研磨抛光时，试样磨面与抛光盘应肯定平行面并匀称地推压在抛光盘上，留心避免试样飞出去和因压力大而形成新磨痕。 另外，还应使试样匀速转动并沿轮盘半经方位往复挪动，以防止抛光纺织物部分损坏太快在抛光全过程时要持续加上硅微粉混液，使抛光纺织物保持一定环境湿度。 环境湿度太交流会变弱抛光的磨痕功效，使试样较硬相展现浮凸和钢中非金属材料参杂物及生铁中高纯石墨相形成“曳尾”状况；环境湿度太钟头，因为摩擦生热会使试样提温，润化功效削减，磨面无光泽，乃至出現黑色斑，轻铝合金则会抛伤表层。 自然，大家以便做到粗抛的目地，规定轮盘转速比较低，不必超出600r/min；抛光時间理应比除掉刮痕需求的时间长些，因为也要除掉形变层。粗抛后磨面光洁，但暗淡无光，在显微镜下观查有匀称细腻的磨痕，尚需精抛铲除。