研磨分为两个过程：

1、平面研磨 这通常是研磨过程的第壹步。平面研磨可确保所有样本的表面均相似，尽管它们的初始状态和先前进行过处理。此外，当在固定器中处理多个样本时，在进行下一步精细研磨之前，必需注意确保它们都处于同一水平或“平面”。为了获得高且一致的材料去除率，较短的研磨时间和较大的平整度，对于平面研磨，使用具有较大晶粒尺寸的固定的晶粒。合适的PG表面将提供的平面试样，从而减少了随后的精细研磨步骤的准备时间。另外，某些表面可以提供良好的边缘保持力。在磨损过程中，会露出新的磨粒，从而确保始终如一地去除材料。 2、精磨 精磨产生的表面变形很小，在抛光过程中很容易去除。由于砂纸的缺点，可以使用其他精细研磨的复合材料表面，以改善和促进精细研磨。通过使用15、9.0和6.0?m的晶粒度，可以获得较高的材料去除率。这是在具有特殊复合材料表面的硬质复合磁盘（刚性磁盘）上完成的。因此，连续供给的金刚石晶粒被嵌入表面并提供精细的研磨作用。使用这些圆盘，可以获得非常平坦的样本表面。在细磨盘上使用金刚石磨料可确保均匀地从硬相和软相中去除材料。没有软相污迹或脆性相碎裂，并且样品将保持的平面度。随后的抛光步骤可以在很短的时间内完成。

了解不锈钢抛光与被控变量的关系

不锈钢抛光按照被控变量与生产过程的关系，可分为两种类型的控制型式，直接指标控制与向接指标控制。如果被控变份本身就是需要控制的工艺指标〔沮度、压力、流址、液位、成分称)，则称为直接指标控制，如果工艺是按质盆指标进行操作的，照理应以产品质世作为被控变笼进行控制，但有时缺乏各种合适的获取质毋信号的检侧手段，或虽能检侧，但信号很微弱或滞后很大，这时可选取与互接质世指，标有单值对应关系面反应又快的另一变皿，如汲度、压力等作为问接控制指标，进行间接指标控制。 例如生产不锈钢抛光时要求对一些成分云进行控制(像枯度、浓度等等)，然而由于日前成分址的在线侧皿仪表较少、侧场滞后较大，灵敏度也较差，因此二般采用与成分没有单值函数关系的温度、流敌等间接参数作为被控分，进行间接指标控制。