金属表面抛光方法

抛光方法 尽管金属表面抛光的方法有很多种，但在工业生产中占有市场份额较大、使用得较多的只有械抛光、化学抛光和电化学抛光这三种方法。因为这三种方法经过长期的使用不断得到改进、提高与完善，其方法与工艺能适合不同条件和要求的抛光，能够在保证产品质量的同时生产效率相对较高、生产成本低、经济效益好。其余的抛光方法有些是属于这三种方法的范畴或由这些方法衍生出来的，有些则是只能应用于特殊材料或特种加，工需要的抛光方法，这些方法可能掌握较困难、复杂、成本高等。 械抛光方法是靠切削、研磨使材料表面塑性变形，压低材料被抛光面的凸部向凹处填平并使得表面粗糙度减小而变得平滑，以改善制品的表面粗糙度，使产品光亮美观或为后续表面加Ⅱ（电镀、化学镀、涂饰）做准备。目前，械抛光方法大部分还是使用原有的械轮抛光、皮带抛光等较原始陈旧的方法，特别是在许多劳动密集型的电镀行业，其简单、容易操作，靠工人的熟练程度及目视控制抛光质量，能加工各种形状简单的小型工件。

精艺研磨简析如何获得光亮的金属抛光表面

为了获得光亮的电抛光表面，必须使表面上微观粗糙度降低到低于光的波长。要达此目的，通常认为应当形成比中间黏液层更厚、更致密、更易钝化的紧密层，它可以是趋于饱和的高黏度黏液层，也可以是固体层。这样，金属的溶解是在紧密膜内进行的，紧密膜的形成速度应当超过该膜的溶解速度，这是存在紧密膜的前提。在几乎无对流的特殊条件下，变得十分厚，也更加紧密，甚至可以出现光的干涉色。在这样厚的黏液膜或固体膜内，阳极电流密度变得非常小，它可以使微观的凸出部溶解，而微观的凹入部不再溶解，这就达到了微观整平目的。由于类似的状态在金属表面的多处均存在，使表面的各个部分均发生微观整平，这种表面的无序微观整平的终结果，就使金属表面变得光亮。所以电抛光实际上是阳极表面的宏观整平(一次电流分布)和微观整平(二次电流分布)作用的结果。只有宏观整平，阳极表面只能变得平滑，但不能产生光泽。有些电解液可以同时具有宏观整平与微观整平作用，在使用抛光抛光的阶段，形成的黏液膜的黏度还不够高，此时只起宏观整平作用。当宏观整平进行到一定程度后，形成的黏液膜更黏、更贴近金属表面，因此也可以起微观整平的作用，从而达到真正抛光的效果。