平面研磨中的要求

①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近； ②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损； ③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳； ④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。图为常用的平面研磨运动轨迹。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米／分，精研速度一般取10～30米／分。

金属表面抛光方法

抛光方法 尽管金属表面抛光的方法有很多种，但在工业生产中占有市场份额较大、使用得较多的只有械抛光、化学抛光和电化学抛光这三种方法。因为这三种方法经过长期的使用不断得到改进、提高与完善，其方法与工艺能适合不同条件和要求的抛光，能够在保证产品质量的同时生产效率相对较高、生产成本低、经济效益好。其余的抛光方法有些是属于这三种方法的范畴或由这些方法衍生出来的，有些则是只能应用于特殊材料或特种加，工需要的抛光方法，这些方法可能掌握较困难、复杂、成本高等。 械抛光方法是靠切削、研磨使材料表面塑性变形，压低材料被抛光面的凸部向凹处填平并使得表面粗糙度减小而变得平滑，以改善制品的表面粗糙度，使产品光亮美观或为后续表面加Ⅱ（电镀、化学镀、涂饰）做准备。目前，械抛光方法大部分还是使用原有的械轮抛光、皮带抛光等较原始陈旧的方法，特别是在许多劳动密集型的电镀行业，其简单、容易操作，靠工人的熟练程度及目视控制抛光质量，能加工各种形状简单的小型工件。