平面研磨中的要求

①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近； ②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损； ③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳； ④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。图为常用的平面研磨运动轨迹。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米／分，精研速度一般取10～30米／分。

电解抛光过程简介

电解抛光是利用不锈钢在电解液中的选择性阳极溶解而达到抛光和清洁表面目的的一种表面处理方法。 电解抛光是通过对电流密度，溶液粘度几温度的控制，使金属在电解液中选择性溶解（低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解）结合溶液光亮剂和阳极极化作用，达到电化学整平抛光的目的。 1.首先采用械抛光打磨及工件表面的氧化皮和各种表面缺陷，使被处理表面初步达到一定的粗糙度。 2.再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷，而电解抛光是一个微观整平的过程，进一步提高表面的物化性能。