电解质等离子抛光液中成分含量的检测方法

电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测，为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量(质量分数)的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象，定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。研究发现，前一种方法应用更为简便，适用于一般工业生产;后一种方法适用于 对抛光效果要求更高的加工．经实验验证两种方法均具有可行性。 监测抛光过程中的电流密度和记录抛光量是两种可以应用于电解质等离子抛光过程中确定抛光液有效成分含量的方法。监测电流密度的方法实际应用更为简单，通过实验得到补充线的数学公式后，不需特别关注，只要在抛光设备的提示下补充即可，适用于一般的工业生产。记录抛光量的方法无论是获取相关数据的实验还是实际应用都更为繁琐一些，但可以更准确掌握抛光液中有效成分含量的变化，将有效成分的含量始终控制在理想的范围，适用于对抛光质量要求更高的工业生产。 电解质等离子抛光是一种新型的针对金属工件的抛光技术。该技术不受工件形状的限制，抛光过程中工件不受宏观力，可以解决机械抛光对于有图案的表面及复杂外型的工件很难达到所希望的高品质外观的问题，且加工效率高，产品的精度、一致性好。 电解质等离子抛光使用低含量的溶液作为抛光液，抛光液中成分的质量分数减小后可以直接补充循环使用，能有效解决电解抛光和化学抛光中可能存在的污染以及废液难于处理的问题，可以取代很多传统的抛光方法。

电解研磨与化学研磨有什么不同？

电解研磨：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠电流能量阳极溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨抛光：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠化学能量自然溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。 化学研磨仅仅是浸渍作业，操作简单；而电解研磨抛光需要大容量直流电，还要合理设置电流对极，控制电流电压，操作工艺复杂，质量控制困难，有些特殊工件还不能处理。人们一直期待着更佳完善的研磨方法出现，虽然这期间出现了一些纯化学研磨抛光技术，但是与电解研磨方式相比，满足其光泽环保以及研磨效果等重要技术指标的产品一直没有出现。 用化学反应溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 用电化学反应阳极溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程 通过切削、塑性变形和磨耗等方式将研磨工件表面变成平滑光亮的过程 电解研磨表面经过化学反应后生成一层保护膜，耐腐蚀性和耐磨性提高，光泽持久。由于塑性变形的影响表面生成加工硬化层和晶格组织结构变化，耐腐蚀性和耐磨性减弱，容易再次氧化发乌，光泽不持久。表面凹凸平滑连续均匀，流动阻力小。被研磨表面平滑连续性不好，凹凸部流动阻力大，表面无付着物。被研磨表面沾附有金属粒，砂粒，研磨膏油脂等杂质，微小毛刺毛边可以很容易除去，100μm以下可以，根据场合工件有时不能处理，微小毛刺毛边不能除去100μm以上可以反光性好,反射能高，正反射率超过９０％，由于杂乱反射,反射能低，正反射率6０％，工件不产生应力变形。加工后的工件产生加工应力变形，由于表面凹凸差小，抗疲劳强度增加10～20%。容易产生疲劳强度，对于导电物质而言，接触面改善冷放射电弧火花不易产生导电性增加，由于毛刺毛边的影响接触面接触不佳易产生火花电弧等，电解研磨任何复杂形状的工件,线状薄板等均可研磨抛光。由于电流分布的影响有些形状的工件不能处理,电线接头处不能处理特殊形状工件不能研磨或者很难研磨。