抛光性能和工作速率受哪些因素影响

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。

降低零件表面粗糙度的方法

降低零件表面粗糙度的方法有很多，常用的是研磨、怕偶刚、扎光、电镀等。研磨是械加工中常用的光整工序，用高转速旋转的细粒砂轮在润滑液作用下与工件接触，砂轮在磨粒的微刃切削工件表面微凸出部分，从而是表面粗糙度降低。采用磨粒粒度为W10或更为细的数值砂轮，可以磨光表面粗糙度Ra。在0.1um一下高光洁度的表面。抛光时常用的表面光整工艺，在旋转的布轮等柔性载体上涂上抛光膏或喷射抛光液，当工件与抛光轮接触时，收到微细磨粒的磨削作用，表面越来越平整，像镜面一样光亮。扎光，又叫滚光，使用低表面粗糙度且表面坚硬的轧辊压延板材，使表面发生塑性变形，微凸起收到强烈的压延作用而被压平。扎光多用于大面积金属板材的光亮和光洁加工，例如光亮不锈钢板的生产。电镀也可以降低表面粗糙度，电镀光亮镍和铬是常用的表面精饰工艺。利用含少量特殊有物的电镀添加剂的吸附作用，是电结晶过程在工件表面的微凸和微凹处有不同的沉积动力学过程，微凹处有更高的沉积速率，达到工件表面平整的目的。