要设法得到合适的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有合适的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减小。 研磨抛光抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。 研磨抛光结构简单，仍需正确使用，做好日常维护保养，使用中应注意如下几点。研磨抛光连续工作时间过长时，抛光辊摩擦生热温度高，易烫伤革面，需降温后再操作。工作前后，应清洁抛光辊表面，并打蜡保持辊面光滑无尘。使用中，控制供料辊压力适当，以免阻力太大，电器发热易烧坏。做好传动链各转动部位的润滑，保持传动准确可靠。

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。我国文化博大精深，在几千年之前，我们的祖先就已经创造出一套精粹的抛光手艺。从大量出土文物的青铜器、玉器、金银器等表面，可以证明这些工艺品在当时只有经过了抛光处理，才能使物件表面光滑、亮锃、更加美观。 抛光是用装在抛光机上，且涂有抛光膏的抛光轮对零件行加工的过程。抛光的目的是进一步降低零件表面的粗糙度，获得光亮的外观。 抛光一般是在平整的表面上进行的，对基材没有明显的麿耗。若镀后抛光，其金属的磨耗一般只应占镀层重量的5%～20%。 抛光时，抛光轮高速旋转，制件与抛光轮摩擦产生高温、使制件金属塑性提高，在抛光力的作用下，金属表面产生塑性变形，凸起的部分被压入并流动，凹进的部分的被填平，从而使细微不平的表面进一步得到改善。抛光膏的化学成分及抛光时周围的介质也起一定作用，在抛光过程中与被抛光金属发生化学反应，降低或加速抛光速度。 抛光金属表面时，抛去的实质上是金属的氧化层。大多数金属的表面，很容易在极短时间（0.05s）内生成一层薄氧化膜（厚约0.0014μm），这层膜被抛去后，新的金属又迅速氧化，继而又被抛去，这样反复进行抛光，终就能获得平整、光泽的抛光表面。