抛光性能和工作速率受哪些因素影响

抛光是工件表面处理必要的设备，很多老司总是在想，“能不能抛光效果更好一点，抛光工件的速度更快一点”。想要解决这两个难题，我们首先要了解抛光效果与速率与哪些因素有关，之后才能做对应的调整改善。 抛光轨迹对抛光性能的影响 抛光精度，即抛光性能，是平面抛光采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。 平面抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动，有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹，行星式研磨轨迹等等。 定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光就是这种。 不定偏心式研磨轨迹，其均匀性明显好于定偏心式轨迹，有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光的研磨抛光轨迹就是这种类型。 直线式研磨使用的不是抛光盘，而是具有柔性的砂带，工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光自修整构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单，如将研磨带加长可以形成批量生产，生产效率高。 摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势，是工件加工面中心处有凹陷的现象。 行星式平面研磨运动轨迹常见用于双面研磨，当改变研磨盘转速和太阳转速之比时，工作效率及材料去除率会发生变化。

平面研磨中的要求

①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近； ②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损； ③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳； ④工件上任一点的运动轨迹尽量避免过早出现周期性重复。图为常用的平面研磨运动轨迹。为了减少切削热，研磨一般在低压低速条件下进行。粗研的压力不超过0.3兆帕，精研压力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般为20～120米／分，精研速度一般取10～30米／分。