细谈平面抛光机镜面加工技术

平面抛光机镜面加工技术是一门新兴的综合性加工技术，它集成了现代机械、光学、电子计算机、测量及材料等先进技术成就，已成为国家科学技术发展水平的重要标志。随着各种新型功能陶瓷材料的不断研制成功，以及这些材料在各种高性能电子元器件、光学、信息系统等领域的广泛应用，要求元件和零件的加工精度越来越高，有的甚至要求达到纳米级或更高的加工精度以及无损伤的表面加工质量。 对于抛光来说，主要是在维持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面损伤层，以获得镜面光度。所以要求均与、无方向性地抛光整个工件表面。反映在抛光机速度上，就是工件表面上每一点的相对速度大小应在任何时候都保持恒定。 工件是不变形的刚体，抛光机的抛光盘是能按工件加工面形状变形的弹性体。这时可以忽略介于两者之间的磨粒与加工液的厚度和形状变化，认为工件与抛光盘间全面贴紧；当工件尺寸大于抛光盘半径，或偏心距过大时，工件会露出抛光盘，既有一部分表面不能与抛光盘始终接触；当研磨或抛光过程中，工件材料平行度误差超出允许范围时就需要对其平行度进行修正。在平面抛光机的镜面抛光加工工序中，可以认为工件的去除量主要是由磨削路径的长度决定的，因此直接控制工件表面的磨削路径长度能够更加精确控制工件的去除量。

切割、研磨、抛光容易忽视的操作环节要注意了

研磨抛光，切割前应对其定向，确定切割面，切割时首先将锯片固定好，被切晶体材料固定好，切割速度选择好，切割时不能不用切割液，它不仅能冲洗锯片，而且还能减少由于切割发热对晶体表面产生的损害，切割液还能冲刷切割区的晶体碎渣。 切割下来的晶片，要进入下一道工序研磨。首先要用测厚仪分类测量晶片的厚度进行分组，将厚度相近的晶片对称粘在载料块上。粘接前，要对晶片的周边进行倒角处理。粘片时载料块温度不易太高，只要固定腊溶化即可，晶片 摆放在载料块的 外圈，粘片要对称，而且要把晶片下面的空气排净（用铁块压实）。防止产生载料块不转和气泡引发的碎片的现象。在研磨过程中适时测量减薄的厚度，直到工艺要求的公差尺寸为止。 使用研磨抛光机前要将设备清洗干净，同时为保证磨盘的平整度，每次使用前都要进行研盘，研盘时将修整环和磨盘自磨，选用研磨液要与研磨晶片的研磨液相同的磨料进行，每次修盘时间10分钟左右即可。只有这样才能保证在研磨时晶片表面不受损伤，达到理想的研磨效果。 抛光前要检查抛光布是否干净，抛光布是否粘的平整，一定要干净平整。进行抛光时，抛光液的流量不能小，要使抛光液在抛光布上充分饱和，一般抛光时间在一小时以上，期间 不停机，因为停机，化学反应仍在进行，而机械摩擦停止，造成腐蚀速率大于机械摩擦速率，而使晶片表面出现小坑点。 设备的清洗非常重要，清洗是否干净将直接影响磨、抛晶片的质量。每次研磨或抛光后，都要认真将设备里外清洗干净。