流体抛光后，工件抛光面粗糙度与两个因素有 直接的关系，一是抛光面原始粗糙度大小，原始粗糙度越好，抛光后的粗糙度越低；二是磨料颗粒度大小，但与我们常规思维不同，并不是颗粒度越细，抛后的粗糙度就越低。应该是抛光面原始粗糙度越好，那么就选用颗粒度更细的磨料，抛出来的粗糙度越低。如果原始粗糙度较高，直接用细磨料，并不能抛出很好的效果，得先用较粗磨料粗抛，然后用细磨料精抛。 当工件待抛光面原始粗糙度较高时，细磨料只能去除一些较细的颗粒，而较粗的颗粒，反而会被研磨隔离。所以先用粗磨料，将较大的粗糙颗粒切削掉，再精抛，将小颗粒粗糙部位磨平。 同样的，如果待抛光面的原始粗糙度已经很好了，就必须选用颗粒度更细的磨料，否则会在表面留下划痕。

国内试样制备的研究开发虽然已有几十年的历史，并己取得了一定的成绩，但是和国外相比仍然有明显的不足。 试样表面易发热变灰暗，而且会继续增厚形变扰动层，对快速抛光好试样带来麻烦。不同性质的材料，需采取不同措施。 而国外研制的全自动表面抛光，能够自动控制冷却液的流量，整个操作过程采用全自动化模式，节省了人工并有效地提高了研究效率与质量。