流体抛光后，工件抛光面粗糙度与两个因素有 直接的关系，一是抛光面原始粗糙度大小，原始粗糙度越好，抛光后的粗糙度越低；二是磨料颗粒度大小，但与我们常规思维不同，并不是颗粒度越细，抛后的粗糙度就越低。应该是抛光面原始粗糙度越好，那么就选用颗粒度更细的磨料，抛出来的粗糙度越低。如果原始粗糙度较高，直接用细磨料，并不能抛出很好的效果，得先用较粗磨料粗抛，然后用细磨料精抛。 当工件待抛光面原始粗糙度较高时，细磨料只能去除一些较细的颗粒，而较粗的颗粒，反而会被研磨隔离。所以先用粗磨料，将较大的粗糙颗粒切削掉，再精抛，将小颗粒粗糙部位磨平。 同样的，如果待抛光面的原始粗糙度已经很好了，就必须选用颗粒度更细的磨料，否则会在表面留下划痕。

研磨表面处理分为单面和双面，主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。在抛光过程中少不了一种耗材，那便是抛光盘，抛光盘关系到工件表面的精度。因此，选用抛光盘有一定的技巧，下面为大家小结3点。 首先不能使用废弃且已经磨损变形的抛光盘，一些小企业为了节省成本就会这样做。其次尽量使用耐磨性能好的抛光盘，抛光盘的材质有多种，不同材质的耐磨性能各不相同，选择材质较好的抛光盘，在耐磨损性能方面也有一定的保证。 ，如果有耐磨性能很好但是稍微出现了磨损，建议采用人工修整抛光盘的平面，这样可避免耗材的浪费。